三和波達真空等離子清洗機在運行過程中所有的功能部件都可以控制，在三和波達等離子清洗機清洗模式下，射頻功率、清洗時間等都可以通過觸摸屏設定，如果需要充入氣體可選擇兩個氣路并分別設置充氣流量。

　　三和波達真空等離子清洗機清洗過程中運行參數包括真空度、射頻輸出功率、清洗時間等都在觸摸屏上顯示。如果你發現在使用等離子清洗機清洗產品時清洗效果不好，可以從上述幾個主要運行參數上做出適當調整。

　　輝光放電時的氣壓大小、放電功率、氣體成分及流動速度和材料類型等對材料刻蝕效果有很大影響。

　　影響等離子清洗機清洗效果的主要因素

　　1.工藝氣體

　　一般在等離子清洗機清洗中，可把活化氣體分為兩類，一類為惰性氣體的等離子體;另一類為反應性氣體的等離子體。

　　以氬等離子為例，在一個物理過程中，在氬等離子中產生的離子會以足夠的能量輻射表面，去掉表面污物。

　　帶正電的氬等離子將被吸引到在真空艙體的負極板。由于高能等離子撞擊，撞擊力足以去除表面上的任何污垢，隨后污垢通過真空泵以氣體形式排出。

　　2.氣體流量

　　工藝艙體壓力與氣流速度、產品排氣率和泵速成函數關系。艙體內氣體接入量的不同，造成產生等離子體的密度不同，從而影響三和波達真空等離子清洗機處理效果。

　　3.壓強

　　三和波達真空等離子清洗機腔體內的壓強在設備運行的過程中主要受漏氣率，充氣及抽氣速度影響。針對不同的材料以及需要去除的污染物不同，所需壓強也是不同的。

　　當充入氬氣、氮氣等非反應性稀有氣體時，此時的三和波達真空等離子清洗機清洗主要靠離子的物理轟擊作用，此時可以通過增大抽速或者減小充氣速度，來保證真空室在較低的壓力。

　　壓強低可以保證離子具有較高的能量轟擊到基片表面以增強清洗效果;但是工作壓力不能過低，當壓力太低時，離子濃度變低沒有足夠的離子轟擊器件表面，也會影響等離子清洗機清洗效果。

　　當以化學清洗為主時，要適當提高三和波達真空等離子清洗機清洗時的工作壓力此時應該是通過增大充氣流量實施以增大反應腔體內的反應氣體濃度，使較多的離子參與化學反應以保證三和波達真空等離子清洗機清洗的效果。

　　4.功率

　　等離子體的密度和能量與射頻功率成正比關系，所以在三和波達真空等離子清洗機清洗時應該增大清洗功率從而提高清洗的程度以及清洗的效率，但當功率過大，離子溫度會上升;

　　在高溫條件下金屬基片或其他易被氧化的物質會被氧化從而被破壞，另外不耐高溫零件例如塑料等也會損壞;

　　因此在三和波達真空等離子清洗機清洗之前可以借助模擬合理選擇需要的功率，既要滿足經濟性要求又要保證三和波達真空等離子清洗機清洗效果以及清洗的效率。

　　5.時間

　　工藝時間的長短與功率、氣體流量和氣體類型相關。通常在保證三和波達真空等離子清洗機清洗效果的同時需要的時間越少越好以提高清洗的效率;

　　但所用時間是與各個參數之間相互關聯的。一般來說，功率越大，所需要三和波達真空等離子清洗機清洗的時間就會越短，但相應的功耗也會越大，功率的增大會使反應腔體與零件的溫度升高,同時也會造成其他的多種問題，例如零件被破壞、發生刻蝕等。

　　因此需要不斷摸索等離子清洗機清洗時間、功率、壓力以及氣體種類和配比的關系選擇一個最佳的清洗工藝。

　　6.溫度

　　在三和波達真空等離子清洗機清洗中，工件溫度會在離子的轟擊作用下變高，所以工件的溫度會受到射頻功率和清洗時間的影響。

　　根據研究表明射頻頻率與溫度成反比:與射頻功率成正比;時間越長溫度越高。對于不同材料，溫度有著不同要求，金屬件一般無特殊要求但要注意防止金屬氧化，非金屬如塑料等溫度要低防止變形。

　　7.均勻性

　　在本真空系統中離子均勻性主要受到氣體流動和腔體壓力的影響。反應氣體的流動性會直接影響到均勻性，在本系統中主要考量均勻性的設計是在充抽氣方面，氣體從真空室前端充入，在真空室中部發生反應，在尾部排出廢氣:壓力也直接影響均勻性，分子的平均自由程隨著壓力的降低而變長，離子所獲得的能量越大且均勻，因此清洗效果越好。

　　等離子體特性與清洗效果之間的關系

　　三和波達真空等離子體電子密度與清洗效果是正相關的，電子密度越大，清洗效果越好，帶電物質數密度，電中性物質數密度與清洗效果也是正相關的，而電子溫度對清洗效果是沒有影響的。

　　三和波達真空等離子清洗機的最大特點是能對任何材質的材料進行處理，如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子有機聚合物等材料，并可實現整體、局部和復雜結構的表面處理。

　　目前，三和波達真空等離子清洗機在國外已經得到了廣泛的應用，多數集中在小批量、高品質的大學、研究所以及跨國公司的半導體、材料和生命科學研究所等高科技行業。